RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）簡介 快速熱處理設備（RTP）可用于砷化鎵、硅以及其他半導體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）具有快速升降溫、慢速升降溫、和長工作時間穩定等特點。也可用于各種半導體材料的CVD工藝的熱處理。
等離子去膠機，等離子表面處理機采用國內*射頻源，其電磁兼容性能優良、高頻輻射小，符合國家環保規定。本機外形美觀大方，操作簡便。等離子去膠機，半導體工藝表面處理機適于對基片進行去膠、清洗等工藝。該設備具有去膠工藝簡單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無酸氣廢水等殘留等特點。
等離子清洗機,等離子表面處理儀是一種表面處理設備， 用氣體作為處理介質，它是利用能量轉換技術以電能將氣體轉換為化學反應性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對固體樣品表面進行相互作用，引起分子結構改變，從而對樣品表面的有機污染物進行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表面特性。
